时间：2024-10-08 23:02:00
半导体生产过程中的主要设备有哪些？
半导体业如此巨大的市场，半导体工艺设备为半导体大规模制造提供制造基础。未来半导体器件的集成化、微型化程度必将更高，功能更强大。以下附送半导体生产过程中的主要设备。
1 单晶炉。设备功能： 熔融半导体材料，拉单晶，为后续半导体器件制造，提供单晶体的半导体晶坯。
2 气相外延炉。设备功能： 为气相外延生长提供特定的工艺环境，实现在单晶上，生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体，为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺，其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续，而且与衬底的晶向保持对应的关系。
3 分子束外延系统。设备功能： 分子束外延系统，提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺设备；分子束外延工艺，是一种制备单晶薄膜的技术，它是在适当的衬底与合适的条件下，沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜。
《半导体化学设备有哪些》不代表本网站观点，如有侵权请联系我们删除
精彩推荐
点击排行
